双展联动 | 纳设智能亮相国际舞台
发布时间：
2025-09-23 00:00
金秋九月，半导体行业迎来交流与创新的重要时节。纳设智能连续参与两大行业盛会 —— 中国台湾国际半导体展（SEMICON Taiwan 2025）与韩国釜山国际碳化硅及相关材料会议（ICSCRM 2025），向全球展示中国企业的技术实力与创新价值。
在为期数十天的展览之旅中，纳设智能携自主研发的全自动双腔 8 英寸碳化硅外延设备精彩亮相，向全球行业同仁展示公司在碳化硅领域的最新突破，同时也对外展现公司在CVD、PVD、ALD等薄膜沉积设备领域的设备布局，赢得与会者的广泛关注。
SEMICON Taiwan 2025：
亚洲半导体盛会
9月10日 - 12日，2025 SEMICON Taiwan 国际半导体展在台北南港展览馆盛大举行。作为亚洲规模最大、影响力最深远的半导体设备与材料专业展会之一，本届展会汇聚了全球半导体产业的领军企业、技术专家，成为行业技术交流与合作对接的重要平台。
展会现场
在本次展会上，纳设智能凭借其创新的技术产品，吸引了众多行业嘉宾驻足交流。展会现场，团队不仅展示了碳化硅外延设备的技术优势与产品亮点，与现有客户及合作伙伴围绕技术突破及产业链协同等话题进行探讨。
纳设智能还充分展现了其在薄膜沉积设备领域积累的研发实力和卓越的自主创新能力，积极探寻在半导体、新型光伏材料、纳米材料等先进材料制造领域的合作新机遇。
ICSCRM 2025：
聚焦宽禁带半导体前沿
紧随SEMICON Taiwan，9 月 14 日 - 19 日，纳设智能团队奔赴韩国釜山，精彩亮相国际碳化硅及相关材料会议（ICSCRM 2025）。这一会议是宽禁带半导体材料与器件领域最具权威性的国际学术会议，汇聚了全球顶尖高校学者、科研机构专家及行业领军企业工程师，共同探讨宽禁带半导体的发展方向、产业化挑战与未来趋势。
展会现场
会议期间，纳设智能副总经理李小天先生以《Dual Chambers,One Goal:Superior SiC Epitaxy and Maximum Output With NASO TECH》为题于Industrial Session发表了演讲，分享了公司在碳化硅外延设备领域的最新进展，重点介绍了纳设独特的创新设计，赢得了学术界与产业界的共同关注，进一步提升了纳设智能在国际宽禁带半导体领域的品牌知名度。
公司首席科学家钟国仿博士在海报展示环节向业界展示了题为《Control of SSF Defects in 8-inch SiC Epitaxial Wafers》的研究成果，深入阐释了纳设智能在大尺寸碳化硅外延缺陷控制方面的解决方案，彰显了公司深厚的技术积累和研发实力。
通过这两场高水平的行业活动，纳设智能不仅向全球客户与行业同仁展示了作为设备厂商的解决方案，更通过深度交流建立了国际化的合作桥梁，为公司拓展全球市场、深化技术合作奠定了坚实基础。
从半导体展会的设备展示到国际学术会议的思想碰撞，纳设智能在短短十余天内双线发力，充分体现了公司积极参与国际竞争、推动行业发展的决心与实力。
未来，纳设智能将继续以“技术创新” 为核心驱动力，持续加大自主研发投入，不断优化各产品线设备的性能与工艺，为全球客户提供更高效、更稳定、更具竞争力的产品与服务，以切实行动推动半导体产业的高质量发展！
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