碳化硅化学气相沉积外延设备

碳化硅外延设备属半导体设备领域，占据第三代半导体产业链上游关键环节。我司碳化硅外延设备采用自主创新的结构设计，同时兼容6英寸、4英寸外延片生长，是一款工艺指标优异、耗材成本低、维护频率低的中国首台完全自主创新的碳化硅外延设备。

科研级定制化CVD设备

(1) MOCVD设备：用于可控、批量制备新型二维材料的MOCVD设备 (2) CVD设备：根据客户提出的具体需求，量身定制CVD设备，主要用于合成科研所需的石墨烯、TMD、纳米材料等二维材料。 (3) 公司研发团队掌握的其他半导体设备技术可用于多种材料的ALD、PECVD、MOCVD及刻蚀设备。

二维材料方向

用于制备硫化钨、硒化铟、氮化硼等过渡金属硫化物TMD

开放式卷对卷石墨烯制备设备

中国开放式卷对卷化学气相沉积设备，可24小时连续大规模制备大面积石墨烯薄膜材料，提高制备效率，降低生产成本。 可集成性*：铜箔清洗抛光->预处理->石墨烯生长->石墨烯转移->石墨烯器件制备等集成在一条生产流水线上，减少中间环节

铜箔预处理、石墨烯转移设备

清洗、抛光采购的卷材铜箔，提供可生长较高质量石墨烯的原料铜箔；将已生产的石墨烯从铜箔转移到PET上，提供符合客户需求的转移石墨烯。

CVD石墨烯材料

我司制备的CVD石墨烯是在低于氢气和甲烷最低爆炸限的条件下，在铜箔介质上生长出的具有较高质量、单层并且连续的薄膜材料。CVD石墨烯材料目前已经有批量式的产业化应用，包括透明导电膜、透明加热膜、光电传感器、透明发生膜、柔性发热可穿戴器件等。