中国开放式卷对卷化学气相沉积设备,可24小时连续大规模制备大面积石墨烯薄膜材料,提高制备效率,降低生产成本。 可集成性*:铜箔清洗抛光->预处理->石墨烯生长->石墨烯转移->石墨烯器件制备等集成在一条生产流水线上,减少中间环节
我司制备的CVD石墨烯是在低于氢气和甲烷最低爆炸限的条件下,在铜箔介质上生长出的具有较高质量、单层并且连续的薄膜材料。CVD石墨烯材料目前已经有批量式的产业化应用,包括透明导电膜、透明加热膜、光电传感器、透明发生膜、柔性发热可穿戴器件等。