产品与技术
PRODUCTS AND TECHNOLOGY
通过物理分隔反应区实现空间交替：基板在移动中依次经过前驱体A区、惰性气体吹扫区、前驱体B区，单次循环即可完成原子层沉积。
薄膜性能：片内/片间/批次间不均匀性＜±5%，折射率不均匀性＜±3%（不均匀性=(最大值-最小值)/(最大值+最小值)）
产品特色：A源B源气路独立，工艺距离可调，源瓶压力可控，自动传片及取片，可扩展腔体及气路数量，支持客户定制
采用时间顺序交替引入前驱体，在单一反应腔内完成循环：前驱体A脉冲→抽空→前驱体B脉冲→抽空
薄膜性能：片内/片间/批次间不均匀性＜±5%，折射率不均匀性＜±3%（不均匀性=(最大值-最小值)/(最大值+最小值)）
产品特色：A源B源气路独立，工艺距离可调，电动开盖，15英寸工业级触摸屏， 支持客户定制