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纳设智能首台原子层沉积设备顺利出货,开启纳米级材料设备新篇章

纳设智能首台原子层沉积设备顺利出货,开启纳米级材料设备新篇章

2024-01-19 17:19

2024年1月18日,纳设智能在先进材料制造装备领域迈出了重要一步——自主研发的首台原子层沉积设备已经完成了所有生产和测试流程,顺利出货!

原子层沉积(Atomic Layer Deposition,简称ALD)是一种薄膜沉积技术,可归于化学气相沉积大类。相对于一般化学气相沉积,其具有独特的表面自限制化学效应,因而可以逐个原子层生长各种化合物或单质薄膜材料,实现更精确的厚度控制。该技术制备的薄膜具有良好的的厚度均匀性,优异的一致性,突出的三维保型性,可用于各类衬底材料的薄膜沉积。

纳设智能利用自身在半导体外延设备、化学气相沉积技术等方面积累的经验及软硬件基础,推出了规格更严、性能更优的ALD设备。

纳设智能的ALD设备可对玻璃、硅片等衬底材料进行超薄氧化物、氮化物等材料的镀膜,可以制备出均匀性好、保形性优、致密性佳的薄膜材料,可应用于对超薄薄膜(1nm~50nm)有需求的各个领域。

纳设智能成功推出ALD设备,体现了纳设智能在先进制程设备领域的创新实力。未来,纳设智能将不断追求卓越,寻求更优化的工艺参数和更高效的设备设计,以提供更精确、更稳定的薄膜沉积解决方案,为行业带来更多创新和进步。

关于纳设智能

深圳市纳设智能装备股份有限公司成立于2018年,主要从事第三代半导体碳化硅、新型光伏材料、纳米材料等先进材料领域所需的薄膜沉积设备等高端设备的研发、生产和销售。公司以“成为全球先进材料制造设备引领者”为愿景,始终坚持自主创新,专注于工艺指标、耗材成本、维护效率等方面的持续优化改进。

公司核心团队由材料设备领域资深专家组成,自有第三代半导体碳化硅外延设备研发技术荣登“科创中国”先导技术榜单。公司于2020年被评定为具有高成长性的“国家高新技术企业”,2023年荣获深圳市“专精特新”中小企业认定,也认证有ISO9001质量管理体系及售后服务体系。

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